10月27日消息，荷兰科技记者马克·海金克长期追踪ASML，曾出版《芯片制造：光刻巨头ASML传奇之路》。
他在调查中提出一个最新判断：中国在出口管制全面收紧之前，已经囤积了规模可观的ASML光刻机，这为后续的芯片技术持久战提供了设备层面的缓冲。
海金克的调查数据显示，中国境内拥有800多台ASML光刻机，其中约一半掌握在中国企业手中，另一半则部署在三星、SK海力士等外资在华工厂。
这一数字并非官方统计，而是海金克基于长期跟踪给出的估算，但它指向的事实是明确的：在EUV被禁、DUV尚可采购的窗口期内，中国企业进行了集中采购。
这些存量设备随后被用于推进先进工艺。2022年，中国厂商利用已有的ASML DUV设备，通过多重曝光实现等效7nm芯片制造；2023年，国产5G手机搭载了基于该工艺的芯片。
DUV多重曝光并非没有代价，工艺复杂度、成本与良率控制都面临压力，但在EUV不可获得的条件下，它成为争取时间的关键工具。
与此同时，管制在持续收紧。2024年，荷兰政府部分撤销了ASML NXT:2050i和NXT:2100i浸润式DUV光刻机的对华出口许可，影响少数中国客户。
此后美国进一步推动将限制范围扩大至存量设备的维保服务，试图把已交付设备的长期运行也纳入管控。
外部限制的收紧，反过来改变了国产设备的市场处境。海金克在2018至2019年随ASML时任CTO马丁·范登布林克访问上海某工厂时观察到，当时中方产品停留在90nm水平，但研发路线已经指向28nm浸润式系统。
海金克对此的评价是，中国的科技路线常常以难以预测却极具创造力的方式推进。
800多台存量ASML设备提供的是时间，而不是终点；真正决定这场持久战走向的，是国产光刻机从90nm向28nm乃至更先进节点推进的速度。
