华为定律打破半导体桎梏!没有先进光刻机也能造芯片 西方封锁成笑话

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5月25日消息,今日上午,华为直接打破半导体行业固有格局,彻底改写了几十年的行业规则!国内首个自主半导体新定律——韬(τ)定律出世,这也是中国在全球半导体领域首次提出指导产业发展的新原则。

可能很多人不知道这意味着什么,用一句话直白来讲:过去几十年,全世界芯片发展,一直都遵循美国的摩尔定律;从今往后,中国有了属于自己的芯片发展规则。

自1965年以来,摩尔定律始终主导行业发展。全球芯片升级,业界靠的都是不断缩小晶体管尺寸迭代,也就是“几何缩微”。

工艺从7nm、5nm一路卷到3nm、2nm,如今已然触及天花板。不仅工艺突破难度骤增,还要高度离不开EUV光刻机。

此外,研发成本更是高到离谱。据悉,如今搭建一条先进的晶圆制造产线更是动辄耗资数百亿美金,单纯压缩尺寸的发展模式,早已没了性价比。

在此困境下,华为跳出西方既定发展框架,走出一条截然不同的新路线。

据悉,华为这次提出的韬定律,核心逻辑放弃死磕空间尺寸,改为时间缩微。不再执着于把芯片做得更小,而是通过电路重构、逻辑折叠、三维堆叠、系统优化等一系列创新技术,大幅压缩信号传输的延迟时间。

这也就意味着,哪怕不用最先进的制程、不用依赖EUV光刻机,也能跑出顶级先进芯片的性能。这对被光刻机卡脖子多年的国产半导体来说,简直是颠覆性的突破!

据华为方面介绍,τ不依靠EUV光刻机,国产半导体制程将在2029年达到2nm。2031年,做出相当于1.4纳米工艺的晶体管密度。美欧的先进光刻机封锁,基本失去意义。

值得注意的是,韬(τ)定律并非停留在理论阶段。

据华为董事、半导体业务部总裁何庭波介绍,在过去6年的实践中,基于“韬(τ)定律”,华为已成功设计和量产了381款芯片,覆盖千行百业的需求。

对中国半导体而言,倘若“韬(τ)定律”最终被证明具备可持续的工程价值,那么未来半导体产业对先进工艺节点的依赖程度可能有所下降。

整个半导体行业竞争方向也会随之转变,行业不再盲目追捧顶尖制程,转而比拼成熟工艺搭配系统创新的综合实力。